插层剂应与聚合物单体及高分子链具有强烈的相互作用这不仅有利于插层反应的进行，而且可以加强两相间的界面粘接，有助于提高复合注塑加工材料的性能，最好具有可参与聚合的基团，聚合物基体可以通过离子键同硅酸盐片层相连接， 增加两相间的相容性。其次价廉易得，可以工业化生产。
 
插层复合最初就是在研究石墨结构时提出来。石墨具有层状结构，片层之间能够相对滑移，但石墨的片层是一种完整的晶体结构，其他分子很难插层进入片层间，尤其是体积大的长链结构的高分子。虽然目前有关聚合物/石墨插层复合物的研究仍然有学者在做，但现在研究较多的是云母类硅酸盐。
 
天然蒙脱土是片层状结构，层间距约1nm，层间是水合的Na+，Ca2+等可交换无机阳离子，这种亲水的微环境不利于插层反应的进行。这样就需要进行离子交换，用有机阳离子改变蒙脱土片层的极性，降低硅酸盐片层的表面能，以增加两相间的亲和性。这样的有机阳离子就叫做插层剂。常用的插层剂为长链的季铵盐，在改变蒙脱土层间微环境的同时，由于季铵盐体系较大，进入层间后可使层间距离扩大，削弱了片层间作用力，因而有利于插层反应的进行。
 
云母类硅酸盐每个单位晶胞由两个硅氧四面体晶片中间夹带一个铝氧八面体晶片构成三明治状结构，两者之间靠共用氧原子接连。这种四面体和八面体的紧密堆积结构使其具有高度有序的晶体排列，每层的厚度为1nm，具有很高的刚度，层间不易滑移。由于硅氧四面体中的部分和铝氧八面体中的部分被Mg2+所同晶置换，因此在这些1nm后的片层表面产生了过剩的负电荷。
 
为了保持电中性，这些过剩的负电荷通过层间吸附的阳离子来补偿。蒙脱土片层间通常吸附水合阳离子，他们很容易与有机或无机阳离子进行交换，使层间距发生变化。间层可交换阳离子数即离子交换容量并不是越高越好，有很多无机物具有与蒙脱土相近的片层结构，片层也带负电性，片层中间也吸附有阳离子，但他们不容易与聚合物插层形成纳米复合材料。因为蒙脱土的片层中间的CEC通常在60-120mmol/100g范围内，这是一个比较合适的离子交换容量。
 
插层型纳米复合注塑加工材料在高分子凝聚态物理中也有独特的研究价值，它提供了聚合物链高度受限于二维空间和聚合物刷子的理想模量。对此类复合材料的结构以及静态、动态行为的深入研究，可以对高分子凝聚态物理中受限链行为的研究起到推动租用。插层复合所用填料需具备片层状结构，如硅酸盐材料。
 
如果无机物的离子交换容量太高，极高的层间库仑力使得无机物片层间作用力过大，不利于大分子链的插入。如果无机物的离子交换容量太低，无机物不能有效的与聚合物相互作用。不足以包装无机物与聚合物基体的相容性。同样不能得到插层纳米复合材料，适宜的离子交换容量、优良的力学性能及低廉的价格，使得蒙脱土成为制备PLS纳米复合材料的首选矿物。
 
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